生產設備
CVD-D 真空設備介紹
CVD-D Vacuum Reactor Device
數拾年來，全世界有超過一千個以上鑽石膜研發單位，其中80%以上為學術單位且僅祇於學術研究。近十年，國內也有數十個單位投入鑽石膜研究，因設備非專用途，且為學術研究器具，周邊設備不全，研發系統未整合，分工但無合作，無專責人員，故研究主題無創意，且技術步人後塵，故至今仍無可應用價值之生產技術可提供產業界建構應用。
日本科技局支援該國無機材料研究所，僅鑽石膜五年計劃就投入25億日圓，且日本貿易局每年補助工業界該項研發工作經費超過10億/NT，Kobe，Sumitomo等集團投入千億/NT從事CVD-鑽石膜研發工作，有鑑於此，美國亦組成專案組織，投入數千億/NT，從事CVD-鑽石膜研發工作，其目的無非就是希望優先取得21世紀主導性材料之領導權。
相關鑽石膜產品，可商業化公司，全世界三大體系如下：
美國：Norton，Lockheed，Diamonex，Crystallume，Kennamltal，G.E. ，AEA Technology
日本：Toshiba，Kyocera，Mitsubishi，Kobe，Nachi，Sumitomo，Idemitsu
歐洲：Dresden，Ceme Coat，Berna A.G.，Ernst winter
其中部份CVD鑽石膜為特殊用途，市場規模有限，即使因鑽石膜無法量產化，單位成本無法下降，但有其應用之必要性，其應用產品之高附加產值，使其商業行為得以持續。
但多數鑽石膜應用，則因應用產品無法取得低成本基材，使其成品價格居高不下，不易量產應用，故至今可商品化應用之CVD鑽石膜電子元件尚未大量露出曙光。
究其原因仍為CVD鑽石膜需長時生長，或為生產設備造價昂貴，且單機產能低下，造成高生產單位成本，致使雖已有完備之應用商品元件開發完成，卻苦無可量化、低成本，供應之CVD鑽石膜基材。基於上述原因，前述CVD鑽石膜可商業化公司，多數亦因可量化，低成本供應之條件不 足而止步不前，甚至縮小規模或放棄。
本公司綜觀CVD鑽石膜發展史，及其各種優缺事項，深知若要在CVD鑽石膜應用領域領先群雄，唯有高品質、量產化、低成本供應為不二法門。
CVD鑽石膜有多種生成設備及方法，如微波電漿法、直流電弧法、及熱鎢絲法等，應用於不同品質需求之生長，其中高品質、高難度者屬熱鎢絲法，其生長面積小、熱變形大、控制困難，利用該方法之設備，目前世界上可生長之商品規格為基材厚度最少2mm，面積最大3英吋，單機產能一次一片，設備造價高昂約新台幣3500萬元。
本公司就高品質為基礎，挑戰熱鎢絲設備，成功開發『CVD-D真空設備-鋒碩2號』，設備造價僅商用設備之1/4。
CVD-D 真空設備-鋒碩二號
設備硬體自行開發完成，且有六年以上每天進行長時間實務生產運作。本設備為目前世界上熱鎢絲法設備最大結構（產品規格1mm基材，4英吋面積），產能為單機一次8片4英吋之鑽石膜晶片。產品品質經各種物、化性測試，經認證確定為高品質CVD-鑽石膜。
本設備由本公司控管高自製率、維修自主化、造價成本低，其產能為商用設備10 倍以上。製程方法與控制自有開發，是品質穩定，良品率高達 90%之關鍵技術。
以上將從設備結構、產能結構及製程方法，三方面同步申請多項國際專利與認證。
鋒碩科技CVD-D真空設備量產能力
